3月24日消息，九峰山實驗室科研團隊近日取得重大突破，成功在全球範圍內首次實現了8英寸矽基氮極性氮化鎵（N-polar GaNOI）高電子遷移率材料的製備。
這一里程碑式的成果不僅打破了國際技術壟斷，更為射頻前端等系統級晶元在頻率、效率、集成度等方面的提升提供了強有力的技術支援，將推動下一代通信、自動駕駛、雷達探測、微波能量傳輸等前沿技術的快速發展。
氮化鎵晶體結構的極性方向對器件性能和應用具有決定性影響，主要分為氮極性氮化鎵和鎵極性氮化鎵兩種極化類型。
研究表明，在高頻、高功率器件領域，氮極性氮化鎵相較於傳統的鎵極性氮化鎵展現出顯著的技術優勢。然而，由於材料生長條件嚴苛、工藝複雜等瓶頸，目前全球僅有少數機構能夠小批量生產2-4英寸氮極性氮化鎵高電子遷移率襯底材料，且成本高昂，限制了其大規模應用。
九峰山實驗室的突破性成果主要體現在以下幾個方面：
首先，通過採用矽基襯底，該技術相容8英寸主流半導體產線設備，並深度集成矽基CMOS工藝，顯著降低了生產成本，同時為大規模量產提供了便利條件；
其次，材料性能得到顯著提升，兼具高電子遷移率和優異的可靠性；
最後，鍵合介面良率超過99%，為大規模產業化奠定了堅實基礎。
氮極性氮化鎵材料在高頻段（如毫米波頻段）表現出色，特別適用於5G/6G通信、衛星通信、雷達系統等高頻操作領域。隨著這一技術的成熟和推廣，未來有望在多個高科技領域實現廣泛應用，推動相關產業的升級與革新。