近日，Semicon展會在上海盛大啟幕，為期三天的活動彙聚了全球半導體行業的精英，共同見證了半導體技術的最新進展。此次展會規模巨集大，佔地9萬平方米，吸引了眾多行業領袖和前沿技術的展示。

走進Semicon展會現場，最為引人注目的莫過於國產半導體設備商的展臺。這些展臺前人潮湧動，熱鬧非凡，顯示出國產半導體設備行業的強勁勢頭。與往屆相比，本屆展會不僅參展商數量大幅增加，而且展示的技術水平也顯著提升。

本次Semicon展會呈現出了三大顯著的新亮點。首先，新品發佈如雨後春筍般湧現。北方華創推出了其首款離子注入機Sirius MC 313，進一步拓展了半導體製造裝備的版圖。同時，該公司還發佈了12英寸電鍍設備Ausip T830，這款設備專為矽通孔（TSV）銅填充設計，將在2.5D/3D先進封裝領域發揮重要作用。據悉，Ausip T830設備突破了三十多項關鍵技術，未來市場前景廣闊。

中微公司同樣不甘示弱，發佈了晶圓邊緣刻蝕設備Primo Halona。這款設備採用獨特的雙反應台設計，可靈活配置多達三個雙反應台的反應腔，每個反應腔均能同時加工兩片晶圓。這一設計在提高生產效率的同時，也降低了生產成本。中微公司還在半導體薄膜沉積設備領域取得了新突破，推出了多款LPCVD薄膜設備和ALD薄膜設備新產品。

拓荊科技也在此次展會上展示了其最新的ALD系列、3D-IC及先進封裝系列、CVD系列新品。作為國內ALD設備裝機量第一的企業，拓荊科技在薄膜設備領域的技術實力不容小覷。據瞭解，該公司已從前道薄膜設備走向3D-IC設備，2024年反應腔出貨量將超過1000台。

第二大亮點是半導體設備廠商積極跨界拓展新領域。北方華創新發佈的離子注入機標誌著該公司正式進軍離子注入設備市場。離子注入作為半導體器件和積體電路生產的核心工藝之一，市場潛力巨大。據國際半導體產業協會（SEMI）數據，2024年全球離子注入設備市場規模將達到276億元，預計到2030年將攀升至307億元。北方華創表示，將以實現離子注入設備全品類佈局為目標，撬動國內160億元的市場空間。

中微公司也在等離子體刻蝕技術領域取得了重大突破。其ICP雙反應台刻蝕機Primo Twin-Star的反應台之間刻蝕精度已達到0.2A（亞埃級），這一精度在氧化矽、氮化矽和多晶矽等薄膜的刻蝕工藝上均得到了驗證。中微公司透露，其CCP的雙台機Primo D-RIE和Primo AD-RIE的加工精度也已達到相同水準。

第三大亮點是新勢力強勢進入半導體設備領域。新凱來作為一家成立僅數年的半導體設備企業，在此次展會上首次公開亮相。其展臺幾乎覆蓋了晶元製造的關鍵環節，包括PVD、CVD、ALD等薄膜設備，ETCH刻蝕裝備以及光學檢測系統等產品。這一動作標誌著新凱來正式加入半導體設備行業的競爭行列。

這些亮點的背後，是國內半導體設備行業不斷前進的縮影。近年來，北方華創、中微公司、盛美半導體等國內設備企業在刻蝕、薄膜沉積等細分領域取得了顯著突破。根據CINNO IC Research的統計數據，2024年全球半導體設備商半導體營收業務Top10中，北方華創作為唯一的中國半導體設備廠商，排名由第八上升至第六。

值得注意的是，大基金二期在半導體領域的投資動作頻頻。今年以來，大基金二期已多次出手，其中三家都瞄準了半導體檢測設備領域。這一趨勢顯示出大基金對於半導體檢測設備行業的看好，也進一步推動了國內半導體設備行業的發展。

在全球半導體市場面臨諸多不確定性的背景下，國內半導體產業需要堅定信心、保持發展定力。魏少軍教授表示，雖然摩爾定律在逐漸放慢，但矽基半導體的發展仍有巨大潛力。國內半導體產業需要集中精力、聚焦發展，並通過不斷的創新突破擁有差異化的產品，在競爭中佔據先機。

隨著全球半導體產業的不斷發展，中國半導體設備行業已然邁出了堅實的步伐。在未來的征途中，我們有理由相信，在產業界同仁的不懈努力下，中國力量將在全球半導體產業版圖中留下更為深刻的印記。