快科技3月26日消息，莫斯科市長謝爾蓋·索比亞寧(Sergei Sobyanin)公開宣佈，來自莫斯科的澤列諾格勒納米中心(Zelenograd Nanotechnology Center)，已經完成了俄羅斯第一台350nm光刻機的研發工作，即將批量投產。
早在2023年，俄羅斯就披露，將在2024年生產350nm光刻機，2026年生產130nm光刻機，承擔這些任務的包括莫斯科、澤列諾格勒、聖彼德堡、新西伯利亞的多家工廠。
2024年5月，俄羅斯披露已完成第一台國產光刻機的組裝，並正在測試，可生產350nm晶片。
謝爾蓋·索比亞寧現在公佈了俄羅斯國產350nm光刻機的第一張實物照片。
他強調：“全球有能力製造這種半導體關鍵設備的國家不足10個，俄羅斯已經躋身其中。這是俄羅斯邁向微電子國產化、達成技術獨立的關鍵一步。”
據他披露，俄羅斯的光刻機和外國類似設備截然不同，沒有使用汞燈作為光源，而是首次使用固體雷射器，具有功率大、能效高、壽命長、光譜集中的優勢。
同時，俄羅斯光刻機的工作區域面積達到了22x22毫米，最大可製造200mm直徑晶圓。
值得一提的是，我國中科院研發成功的DUV鐳射光源技術，也是完全基於固態設計，有望推進至3nm節點，只是目前還存在功率、頻率偏低的不足。
350nm工藝看起來很落後，但依然可以滿足汽車、能源、通信等領域的部分需求，而且俄羅斯正在繼續推進130nm光刻機的研發工作，預計明年即可完成。
另外，俄羅斯已經掌握65nm工藝製造技術，但依賴國外進口設備，目前也正在為65nm國產化做準備。